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| 大型直线电机光刻设备iGrapher3000投入运行 | |
| 日期：2020-08-19 人气：1121 | |
| 大型直线电机光刻设备iGrapher3000投入运行。功夫不负有心人，在十多年得持续刻苦钻研下，苏大维格浦东林博士带领的科研人员终于成功研制出大型紫外 3D 直写光刻设iGrapher3000，并在工业领域投用。 据小编所知，iGrapher3000具有实时处理、传输、同步写入快速光刻海量数据文件，大面积光刻厚胶板，三维微结构形貌曝光邻近效应补偿等功能，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台。 众所周知，光刻机与芯片息息相关，而在新品产业，光刻机共分为两种类型，一是投影光刻机，将光掩模图形缩微并光刻到硅片上，制备集成电路图形，如阿斯麦通的EUV 投影光刻机；一是直写光刻机，用于 0.25 微米及以上节点的芯片光掩模版、0.18 微米节点以下的部分光掩模制备，如美应用材料公司的ALTA 光刻机。 划重点，无论是投影光刻机还是直写光刻机，昆山同茂电子自主研发、生产和销售的直线电机在其中都有实际应用案例。譬如上海微电子是主营投影光刻机的企业，而其是我们同茂的战略合作伙伴，已多次从我司购入高性能的直线电机；此外同茂造直线电机已被相关研究机构用于激光微纳光刻直写应用的研发，该直写光刻机可在焦距≤2μm的情况下，使用1μm直径光斑的高精度激光束，对材料进行低速下(2mm/s)2μm线宽光刻直写作业。 |
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